Chemical-mechanical polishing method and apparatus
WO2006111790
Art A1
26. Oktober 2006
Anmelder: S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006111790
- Aktenzeichen
- EP05741017
- Anmeldetag
- 22. April 2005
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B49/12B24B37/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies war ein französischer Hersteller von Silizium-auf-Isolator-Wafern für die Halbleiterindustrie, das heutige Unternehmen firmiert als Soitec. Der Patentbestand konzentriert sich fast ausschließlich auf Halbleiterbauelemente und Waferbondverfahren.
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Fachgebiete
Vertreten von
Collin, Jérôme
Paris, Frankreich
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