Mesoporous silica thick-film, process for producing the same, absorber apparatus and adsorbing film
WO2006112505
Art A1
26. Oktober 2006
Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006112505
- Aktenzeichen
- EP06745517
- Anmeldetag
- 20. April 2006
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/12B01J20/10B01J20/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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