Process for manufacturing a mos device with intercell ion implant

WO2006114376 Art A1 2. November 2006

Anmelder: STMicroelectronics Srl 🇮🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006114376
Aktenzeichen: EP06743339
Anmeldetag: 19. April 2006
Veröffentlichung: 2. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L29/78H01L29/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: STMicroelectronics Srl
Land: 🇮🇹 Italien

🇨🇭 STMicroelectronics International

Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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