Chemical vapor deposition system and method

WO2006116776 Art A2 2. November 2006

Anmelder: Medtronic, Inc., MEDTRONIC, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006116776
Aktenzeichen: EP06769987
Anmeldetag: 27. April 2006
Veröffentlichung: 2. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/50C23C16/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Medtronic, Inc.
MEDTRONIC, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Medtronic

US-amerikanischer Medizintechnikkonzern, entwickelt Implantate, Geräte und Therapiesysteme unter anderem für Herz-Kreislauf-, Diabetes- und neurologische Erkrankungen.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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