Immersion exposure tool cleaning system and method

WO2006117120 Art A1 9. November 2006

Anmelder: Qimonda AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006117120
Aktenzeichen: EP06742712
Anmeldetag: 26. April 2006
Veröffentlichung: 9. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Qimonda AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Qimonda

Qimonda war ein deutscher Halbleiterhersteller mit Sitz in München, der 2006 aus dem Speicherchip-Geschäft von Infineon hervorging und 2009 insolvent wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung, insbesondere DRAM- und resistive Speichertechnologien. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus der kurzen Unternehmensgeschichte zwischen 2000 und 2008.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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