Surface wave excitation plasma generator and surface wave excitation plasma processing system
WO2006118042
Art A1
9. November 2006
Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006118042
- Aktenzeichen
- EP06745510
- Anmeldetag
- 20. April 2006
- Veröffentlichung
- 9. November 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/46C23C16/511H01L21/205H01L21/302H01L21/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shimadzu Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shimadzu
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.
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