High Strength Sputtering Target For Forming Phosphor Film in Electroluminescence Element

WO2006120961 Art A1 16. November 2006

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006120961
Aktenzeichen: EP06745950
Anmeldetag: 1. Mai 2006
Veröffentlichung: 16. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C09K11/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von