(meth)acrylamide derivative, polymer, chemically amplified photosensitive resin composition, and method for forming pattern

WO2006121150 Art A1 16. November 2006

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006121150
Aktenzeichen: EP06746337
Anmeldetag: 12. Mai 2006
Veröffentlichung: 16. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/58C07C233/27C07C233/75C07D309/10C07F7/18G03F7/004G03F7/039G03F7/075G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NEC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

19.509 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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