Conductive barrier layer, especially an alloy of ruthenium and tantalum and sputter deposition thereof

WO2006121604 Art A2 16. November 2006

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006121604
Aktenzeichen: EP06751285
Anmeldetag: 25. April 2006
Veröffentlichung: 16. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B32B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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