Plasma generating apparatus and plasma treatment apparatus

WO2006123524 Art A1 23. November 2006

Anmelder: Shibaura Mechatronics Corporation, Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006123524
Aktenzeichen: EP06732383
Anmeldetag: 26. April 2006
Veröffentlichung: 23. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/205H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shibaura Mechatronics Corporation
Kabushiki Kaisha Toshiba
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.647 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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