Method for manufacturing phase shift mask blank and method for manufacturing phase shift mask

WO2006123630 Art A1 23. November 2006

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006123630
Aktenzeichen
EP06746410
Anmeldetag
16. Mai 2006
Veröffentlichung
23. November 2006
Rechtsraum
WO
IPC
G03F1/08C23C14/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
HOYA CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen