Method for manufacturing phase shift mask blank and method for manufacturing phase shift mask
WO2006123630
Art A1
23. November 2006
Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006123630
- Aktenzeichen
- EP06746410
- Anmeldetag
- 16. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 23. November 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/08C23C14/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HOYA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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