Treatment of substrate using fuctionalizing agent in supercritical carbon dioxide

WO2006124321 Art A2 23. November 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006124321
Aktenzeichen: EP06752275
Anmeldetag: 2. Mai 2006
Veröffentlichung: 23. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42H01L21/3105H01L21/306H01L21/321

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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