A process for low temperature plasma deposition of an optical absorption layer and high speed optical annealing

WO2006124968 Art A2 23. November 2006

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006124968
Aktenzeichen: EP06759993
Anmeldetag: 16. Mai 2006
Veröffentlichung: 23. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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