Polysilane compound-containing lower layer film forming composition for lithography

WO2006126406 Art A1 30. November 2006

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006126406
Aktenzeichen
EP06732557
Anmeldetag
12. Mai 2006
Veröffentlichung
30. November 2006
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/11C08L83/16C09D5/00C09D183/16H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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