Method to increase the compressive stress of pecvd silicon nitride films

WO2006127462 Art A2 30. November 2006

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006127462
Aktenzeichen: EP06770662
Anmeldetag: 18. Mai 2006
Veröffentlichung: 30. November 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/318C23C16/34H01L21/314H01L21/8234H01L21/8238

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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