Photosensitive resin composition, photosensitive element employing the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board

WO2006129469 Art A1 7. Dezember 2006

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd., Rhodia Nicca, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006129469
Aktenzeichen: EP06746395
Anmeldetag: 15. Mai 2006
Veröffentlichung: 7. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/033H05K3/06H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Rhodia Nicca, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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