Semiconductor wafer cleaning composition containing phosphonic acid and method of cleaning

WO2006129538 Art A1 7. Dezember 2006

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006129538
Aktenzeichen: EP06746787
Anmeldetag: 24. Mai 2006
Veröffentlichung: 7. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/08C11D7/10C11D7/26C11D7/32C11D7/34C11D7/50G03F7/42H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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