Radiation-sensitive resin composition, layered product, and process for producing the same
WO2006129875
Art A1
7. Dezember 2006
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006129875
- Aktenzeichen
- EP06747215
- Anmeldetag
- 31. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/075G03F7/004G03F7/023G03F7/40H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
2.552 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.