Compound for resist and resist composition

WO2006132139 Art A1 14. Dezember 2006

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006132139
Aktenzeichen: EP06747110
Anmeldetag: 2. Juni 2006
Veröffentlichung: 14. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C43/215C07C43/225C07C69/54C07D303/22G03F7/038H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

1.434 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von