Near-field exposure mask, method of producing that mask, near-field exposure apparatus having that mask, and resist pattern forming method

WO2006132425 Art A1 14. Dezember 2006

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006132425
Aktenzeichen: EP06757314
Anmeldetag: 7. Juni 2006
Veröffentlichung: 14. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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