Material processing method for semiconductor lasers

WO2006132660 Art A2 14. Dezember 2006

Anmelder: California Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006132660
Aktenzeichen: EP05857950
Anmeldetag: 28. September 2005
Veröffentlichung: 14. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: California Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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