Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same

WO2006133800 Art A1 21. Dezember 2006

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006133800
Aktenzeichen: EP06753915
Anmeldetag: 26. Mai 2006
Veröffentlichung: 21. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von