Method for manufacturing semiconductor device and computer storage medium

WO2006134879 Art A1 21. Dezember 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006134879
Aktenzeichen: EP06757249
Anmeldetag: 12. Juni 2006
Veröffentlichung: 21. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316C23C16/40H01L21/8246H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von