Photoresist developer and process for producing substrate with the use of the developer

WO2006134902 Art A1 21. Dezember 2006

Anmelder: Tokuyama Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006134902
Aktenzeichen: EP06766626
Anmeldetag: 13. Juni 2006
Veröffentlichung: 21. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokuyama Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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