Process for production of semiconductor device and apparatus for treatment of substrate

WO2006134930 Art A1 21. Dezember 2006

Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006134930
Aktenzeichen: EP06757288
Anmeldetag: 13. Juni 2006
Veröffentlichung: 21. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18H01L21/285H01L21/8242H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Kokusai Electric Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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