Gas treatment method and computer readable storage medium

WO2006137402 Art A1 28. Dezember 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006137402
Aktenzeichen: EP06766996
Anmeldetag: 20. Juni 2006
Veröffentlichung: 28. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C8/36C23C8/24C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von