Fabrication method for back-illuminated cmos or ccd imagers made from soi wafer

WO2006137867 Art A1 28. Dezember 2006

Anmelder: California Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006137867
Aktenzeichen: EP05858140
Anmeldetag: 13. September 2005
Veröffentlichung: 28. Dezember 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/146

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: California Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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