Method for producing highly pure silicon

WO2007001093 Art A1 4. Januar 2007

Anmelder: Sumitomo Chemical Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007001093
Aktenzeichen: EP06767869
Anmeldetag: 28. Juni 2006
Veröffentlichung: 4. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/033

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Sumitomo Chemical Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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