Polypropylene Having Reduced Residual Metals

WO2007002206 Art A2 4. Januar 2007

Anmelder: FINA TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007002206
Aktenzeichen: EP06773698
Anmeldetag: 20. Juni 2006
Veröffentlichung: 4. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C08F6/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FINA TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Fina Technology

Der Anmelder ist ein US-amerikanisches Unternehmen für petrochemische Produkte und geht auf die frühere Fina-Gruppe zurück, die heute Teil von TotalEnergies ist. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Kunststoff- und Polymertechnik, ergänzt durch organische Chemie und Verfahrenstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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