Euv Light Source Collector Erosion Mitigation

WO2007002374 Art A2 4. Januar 2007

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007002374
Aktenzeichen: EP06785416
Anmeldetag: 23. Juni 2006
Veröffentlichung: 4. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G21K1/00H01J35/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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