Conductive particles comprising complex metal layer with density gradient, method for preparing the particles, and anisotropic conductive adhesive composition comprising the particles
WO2007004765
Art A1
11. Januar 2007
Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007004765
- Aktenzeichen
- EP05774052
- Anmeldetag
- 5. August 2005
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08J3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CHEIL INDUSTRIES INC.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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