Conductive particles comprising complex metal layer with density gradient, method for preparing the particles, and anisotropic conductive adhesive composition comprising the particles

WO2007004765 Art A1 11. Januar 2007

Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007004765
Aktenzeichen
EP05774052
Anmeldetag
5. August 2005
Veröffentlichung
11. Januar 2007
Rechtsraum
WO
IPC
C08J3/12
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
CHEIL INDUSTRIES INC.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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