Vaporizable metalorganic compounds for deposition of metals and metal-containing thin films

WO2007005088 Art A2 11. Januar 2007

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007005088
Aktenzeichen: EP06750725
Anmeldetag: 17. April 2006
Veröffentlichung: 11. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C07F7/00C07F9/00C23C16/00H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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