Methods and apparatus for optimizing an electrical response to a conductive layer on a substrate

WO2007005211 Art A2 11. Januar 2007

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007005211
Aktenzeichen: EP06773071
Anmeldetag: 13. Juni 2006
Veröffentlichung: 11. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G01R35/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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