Use of supercritical fluid to dry wafer and clean lens in immersion lithography

WO2007005362 Art A2 11. Januar 2007

Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., Spansion LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007005362
Aktenzeichen: EP06773980
Anmeldetag: 23. Juni 2006
Veröffentlichung: 11. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
Spansion LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

2.406 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Spansion

Spansion war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller, der auf Flash-Speicher spezialisiert war und später in Cypress Semiconductor aufging. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeichertechnik, ergänzt um Software. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2014.

433 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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