Lpp euv plasma source material target delivery system

WO2007005409 Art A2 11. Januar 2007

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007005409
Aktenzeichen
EP06774087
Anmeldetag
27. Juni 2006
Veröffentlichung
11. Januar 2007
Rechtsraum
WO
IPC
G21G4/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Cymer, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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