Substrate for immersion exposure, exposure method and method for manufacturing device

WO2007007723 Art A1 18. Januar 2007

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007007723
Aktenzeichen: EP06780923
Anmeldetag: 10. Juli 2006
Veröffentlichung: 18. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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