Method and device for forming hole in glass substrate

WO2007007783 Art A1 18. Januar 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007007783
Aktenzeichen: EP06781012
Anmeldetag: 12. Juli 2006
Veröffentlichung: 18. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C03C19/00C03B11/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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