Low stress, ultra-thin, uniform membrane, methods of fabricating same and incorporation into detection devices

WO2007008216 Art A2 18. Januar 2007

Anmelder: California Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007008216
Aktenzeichen: EP05858364
Anmeldetag: 29. Juli 2005
Veröffentlichung: 18. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01J5/18H01J47/00H01J33/04H01J35/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: California Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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