Methods for verifying gas flow rates from a gas supply system into a plasma processing chamber

WO2007008509 Art A2 18. Januar 2007

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007008509
Aktenzeichen: EP06786299
Anmeldetag: 5. Juli 2006
Veröffentlichung: 18. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G01F25/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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