Method of preparing photomask pattern data, photomask produced by using that photomask pattern data, and method of producing semiconductor device using that photomask

WO2007010621 Art A1 25. Januar 2007

Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007010621
Aktenzeichen: EP05766141
Anmeldetag: 22. Juli 2005
Veröffentlichung: 25. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027G03F7/20H01L21/82

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Fujitsu Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

17.891 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von