Photo mask blank, photo mask, and their fabrication method

WO2007010935 Art A1 25. Januar 2007

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007010935
Aktenzeichen: EP06768284
Anmeldetag: 19. Juli 2006
Veröffentlichung: 25. Januar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08C23C14/06H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

1.905 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von