Photomask, method for manufacturing such photomask and method for manufacturing electronic device

WO2007013162 Art A1 1. Februar 2007

Anmelder: FUJITSU LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007013162
Aktenzeichen: EP05766975
Anmeldetag: 28. Juli 2005
Veröffentlichung: 1. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJITSU LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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