Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

WO2007013355 Art A1 1. Februar 2007

Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007013355
Aktenzeichen: EP06781377
Anmeldetag: 20. Juli 2006
Veröffentlichung: 1. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Kokusai Electric Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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