Sputtering target, method for manufacturing such sputtering target, and transparent conducting film

WO2007013387 Art A1 1. Februar 2007

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007013387
Aktenzeichen: EP06781472
Anmeldetag: 24. Juli 2006
Veröffentlichung: 1. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H05B33/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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