Compounds, process for production thereof, low-molecular compounds, positive resist compositions and process for formation of resist patterns

WO2007013471 Art A1 1. Februar 2007

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007013471
Aktenzeichen: EP06781608
Anmeldetag: 25. Juli 2006
Veröffentlichung: 1. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C07C59/70C07C51/09C07C51/353C07C65/105C07C69/736G03F7/004G03F7/039C07B61/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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