Mask blank fabrication method and exposure mask fabrication method

WO2007013540 Art A1 1. Februar 2007

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007013540
Aktenzeichen: EP06781743
Anmeldetag: 27. Juli 2006
Veröffentlichung: 1. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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