Semiconductor device, semiconductor device fabrication method, semiconductor device fabrication method program and semiconductor fabrication device

WO2007013580 Art A1 1. Februar 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007013580
Aktenzeichen: EP06781867
Anmeldetag: 28. Juli 2006
Veröffentlichung: 1. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G01P21/00H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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