SiO2-Formkörper aus Zwei Schichten, Verfahren zu Ihrer Herstellung und Verwendung

WO2007014823 Art A2 8. Februar 2007

Anmelder: Wacker Chemie AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007014823
Aktenzeichen: EP06764084
Anmeldetag: 6. Juli 2006
Veröffentlichung: 8. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C03B19/00B32B17/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Wacker Chemie AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Wacker Chemie

Deutscher Chemiekonzern mit Sitz in München, spezialisiert auf Silicone, Polymere und polykristallines Silizium für die Halbleiter- und Solarindustrie. Das Unternehmen wurde 1914 gegründet.

1.760 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von