Method and device for removing conductive metal oxide thin film

WO2007015454 Art A1 8. Februar 2007

Anmelder: Hitachi Zosen Corporation, Hitz Hi-Technology Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007015454
Aktenzeichen: EP06782013
Anmeldetag: 31. Juli 2006
Veröffentlichung: 8. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C03C23/00C25F3/00C25F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Zosen Corporation
Hitz Hi-Technology Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Zosen

Hitachi Zosen ist ein japanischer Schwermaschinenbaukonzern mit Wurzeln im Schiffbau, heute unter anderem in der Umwelt- und Energietechnik aktiv. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um anorganische Chemie. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2024.

521 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von