Method of using nf3 for removing surface deposits

WO2007016631 Art A1 8. Februar 2007

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007016631
Aktenzeichen: EP06800660
Anmeldetag: 2. August 2006
Veröffentlichung: 8. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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